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聚焦纹影试验台改进与性能验证

聚焦纹影试验台改进与性能验证

王松

摘 要:本文在前人理論基础上,尝试使用一种基于参数分类、追求各性能参数平衡的聚焦纹影系统设计思路,根据该思路探讨不同设计的对比,初步探索系统的设计规律。结果表明,流场处于纹影镜和源格栅之间,近纹影镜37%间距处时,各性能参数例如灵敏度、分辨率、聚焦深度、视场大小、放大率等,能够取得比较平衡的效果。最后针对实验室超音风洞,优化了刀口栅的制备。

关键词:聚焦纹影 设计 密度场测量 光学显示 激波

中图分类号:V211.72 文献标识码:A 文章编号:1674-098X(2017)11(b)-0089-02

基于前人所取得的理论成果,本文目的在于服务叶栅内部流动测试,尝试探讨聚焦纹影系统的设计方法,通过设计结果的对比,形成对本设计方法的规律性认识。最后,依据该设计方法设计了一套本实验室的聚焦纹影系统,并通过使用单向玻璃,实现静态图像采集和动态视频录制。

1 聚焦纹影系统设计思路

聚焦纹影系统设计是一个各类参数耦合考虑的反问题。依据物理模型,先梳理各物理量,然后通过不同类型的公式将其联系起来得出结果。表1列出了系统中涉及的性能、元器件、几何布置三大类参数;表2列出了聚焦纹影系统所遵循的设计公式。

实际设计中,首先确定测试需求,引入需讨论的参变量,确定各物理量随选定自变量的变化规律,然后通过综合设计曲线选定最佳设计点,进而导出具体设计参数,最后根据限定条件校核系统,反馈设计,由于试验平台情况,本文需要设计一个在分辨率较高的基础上,性能比较平衡系统,视场大小与风洞喷管尺寸相关,以保证观察到流场主要特征结构。

系统中最关键的部件是纹影镜头,一般可使用商用单反定焦镜头。通常焦距在150~550mm,光圈值为f/2.5~f/6可以获得好的结果。由于L、l可变化域是焦距f的正线性函数,切光像高a与f正线性相关,因此镜头务必为中长焦。一般来说,为保证成像质量,要求在光源足够明亮的同时,尽量使用长焦、大光圈口径、解像力高、广角的纹影镜。本文要考虑到成本问题,选用佳能EF135mmf/2L USM和佳能EF 300mmf/4L IS USM定焦单反镜头进行设计检验。

2 系统设计研究

系统遵从透镜成像规律,所以取值范围有限。考虑到系统尺寸及成像大小,取l∈(1.1f,3f),L∈(3f,8f)。

光源像高a过小时,图像亮度不足;a过大,灵敏度下降,因此将切光量设为源格栅像高一半。引入几何关系式:1/n=2a+b。结合灵敏度、分辨率、清晰度指标3个核心公式,3个方程存在5个未知数,必须给定两个参数,方程组才有适定解。

这里将L定为参变量,在(3f,8f)中选定距离4f。l作为自变量,研究l在(1.1f,3f)区间变化时,系统各参数变化趋势。

首先分别给出a,n,w,DS,DU关于l的曲线关系,进而导出b,m,总长等其他函数关系。根据各参数在本设计中的优先级,选取8个关键的参数进行设计点选取:放大率m,切光后光源像高a,刀口栅不透明条宽b,分辨率ω,清晰聚焦深度DS,非清晰聚焦深度DU,视场尺寸FVS,核心系统总长lcore。表2分析了这8个参数随l的变化情况。

根据以上8个参数随l的变化情况,分别取8个参数最大值将其归一化,得出综合设计曲线。再进一步选取设计点,反复迭代设计结果,直至通过限定条件校核。

实验系统部件制作改进。刀口栅为源格栅的负像,尺寸值一般为缩比的源栅。定量分析的实验中,灵敏度要求比较高,则刀口栅需要非常精密。本设计结果中刀口栅挡光条仅为0.13mm,考虑制作精度及成本后,决定使用激光光绘法。该方法加工精度高,黑白对比度好,加工便捷,成本较为低廉。

3 结论

(1)本课题着眼于超音测试,开展了聚焦纹影系统设计研究,搭建了一套聚焦纹影系统,进行了超音流场测试实验应用,对采集照片进行了初步处理,取得了一定结果。

(2)设计对比得出:同一种镜头,相同的几何布置下,可通过更替配套光栅来实现系统灵敏度的调整。

(3)根据流场强度适当选取系统灵敏度;根据实验台空间限制校核几何布局参数。

(4)蜡烛实验验证,聚焦纹影系统性能参数达到了设计预期。超音流场实验中,能较准确捕捉到流场波结构。

(5)分析若干因素对聚焦纹影图像的影响,对图像进行了初步处理。

(6)选取光绘法制作格栅,该设计系统下一步将探索该技术在涡轮叶栅实验中的应用。

参考文献

[1]Burton RA.A Modified Schlieren Apparatus for Large Areas of Field[J].Journal of the Optical Society of America,1949(11):907.

[2]Boedeker LR.Analysis and construction of a sharp focusing Schlieren system[D]. Massachusetts Institute of Technology,1959.

[3]Weinstein LM.Large-field high-brightness focusing schlieren system[J].American Institute of Aeronautics and Astronautics,1993,31(7):1250-1255.endprint

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